用來進(jìn)行介質(zhì)膜的濺射，如在玻璃上鍍ITO膜之前需鍍上一層SiO2擴(kuò)散隔離層，該SiO2膜就是采用射頻濺射。
通常在濺射過程中輝光放電中的離子撞擊到陰極時(shí)，會(huì)與陰極的電子中和，是的濺射現(xiàn)象可以繼續(xù)進(jìn)行。
但若靶材本身不導(dǎo)電的話，離子撞擊到靶材上沒有電子中和，
正電荷一直累積，使與后來的離子排斥，這會(huì)造成取代直流電源，使可解決此離子撞擊現(xiàn)象的停頓。
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用來進(jìn)行介質(zhì)膜的濺射，如在玻璃上鍍ITO膜之前需鍍上一層SiO2擴(kuò)散隔離層，該SiO2膜就是采用射頻濺射。