濺射靶材具有高純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點，一般由靶坯和背板組成。

靶坯屬于濺射靶材的核心部分，是高速離子束流轟擊的目標材料。

靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜。

由于高純度金屬強度較低，因此濺射靶材需要在高電壓、高真空的機臺環境內完成濺射過程。

超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進行接合，背板起到主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導電、導熱性能。