物理氣相沉積介紹之真空卷繞鍍膜技術：
        真空卷繞鍍膜(卷對卷)是在真空下應用不同方法在柔性基體上實現連續鍍膜的一種技術。它涵蓋真空獲得、機電控制、高精傳動和表面分析等多方面內容。其重點是，在保證鍍膜質量前提下提高卷繞速率、控制鍍膜穩定性及實施在線監控。卷對卷技術成本低、易操作、與柔性基底相容、生產率高及可連續鍍多層膜等優點。第一臺真空蒸發卷繞鍍膜機1935年制成，現可鍍幅寬由500至2500mm。卷對卷技術應用由包裝和裝飾用膜，近年逐漸擴大至激光防偽膜、導電等功能薄膜方面，是未來柔性電子等行業的主流技術之一。
        真空卷繞鍍膜系統按結構可分為單室、雙室和多室真空卷繞系統，后兩者可解決開卷放氣問題并分別控制卷繞和鍍膜室各自真空度。卷繞張力控制分錐度、間接和直接控制模型，錐度控制模型可解決薄膜褶皺和徑向力分布不均的問題；間接張力控制無需傳感器，可用內置張力控制模塊的矢量變頻器代替；直接張力控制通過張力傳感器精確測量張力值，但需慣性矩和角速度等多種參數。真空卷繞鍍膜主要有真空蒸發、磁控濺射等方式，可用于制備新型高折射率薄膜、石墨烯等納米材料和柔性太陽能電池等半導體器件。針對真空卷繞鍍膜技術研究現狀及向產業化過渡存在的問題，最后作了簡要分析與展望。
        真空卷對卷設備由抽真空、卷繞、鍍膜和電氣控制等系統組成。真空卷繞鍍膜設備根據真空室有無擋板，可分單室、雙室和多室結構。單室的收放卷輥和鍍膜輥在同一室中，結構簡單但開卷時放氣會污染真空環境。雙室結構將系統用擋板隔成卷繞和鍍膜室，卷輥與擋板間隙約1.5mm，避免了類似開卷放氣問題。多室常用于制備復合薄膜，在雙室基礎上將相鄰鍍膜區用擋板隔開避免干擾。如Krebs等將Skultuna FlexiblesAB的開普頓擋板固定于兩磁控濺射靶間，板兩側涂覆50μm的銅層。分隔擋板與真空室壁狹縫越小越好。據鍍膜時輥筒作用分為單主輥和多主輥卷繞鍍膜機。據電機個數，則可分為兩電機、三電機和四電機驅動系統。