離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí)，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者有機(jī)結(jié)合起來，不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量，而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其優(yōu)點(diǎn)是薄膜附著力強(qiáng)，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區(qū)別。多弧離子鍍采用的是弧光放電，而并不是傳統(tǒng)離子鍍的輝光放電進(jìn)行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發(fā)源，通過靶與陽極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發(fā)，從而在空間中形成等離子體，對基體進(jìn)行沉積。

可以鍍制不銹鋼、鉻、鈦、鎢等多種金屬膜，也可鍍制合金膜或化合物，如TiN\TiAlN\CrN膜等,臥式多弧離子鍍膜機(jī)主要針對大面積五金工件鍍裝飾膜或者功能膜，適合于在不銹鋼板、不銹鋼管、不銹鋼門等工件表面鍍膜。

1)、此類設(shè)備真空室最大尺寸能實(shí)現(xiàn) φ5000X10000MM（長）
2)、是在大型板材、管材上鍍制各類裝飾膜層及功能膜膜層的適合設(shè)備。